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- 其他产品
镀膜仪配有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
三靶磁控镀膜仪应用范围：
该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。三靶磁控镀膜仪技术参数：
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项目 |
明细 |
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产品型号 |
CY-MSP325X-DCDCRF-SS |
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供电电压 |
AC220V，50Hz |
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整机功率 |
6KW |
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系统真空 |
≦5×10-4Pa |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加热温度 |
≦750℃ |
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控温精度 |
±1℃ |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
靶材尺寸 |
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷却模式 |
循环水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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靶枪数量 |
3 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
直径φ325mm，高度600mm |
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腔体材质 |
SUU304不锈钢 |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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开启方式 |
前面开启 |
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气体控制 |
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM |
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真空系统 |
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S |
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膜厚测量 |
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å |
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溅射电源 |
直流电源功率500W*2，射频电源功率300Ｗ |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制系统 |
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真空计 |
电阻规真空计 |
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设备尺寸 |
1090mm×900mm×1250mm |
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设备重量 |
350kg |
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