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CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置.
磁控溅射镀膜仪技术参数：
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项目 |
明细 |
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产品型号 |
CY-MSZ325-III-DCDCDC-SS |
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供电电压 |
AC220V，50Hz |
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整机功率 |
6KW |
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系统真空 |
≦5×10-4Pa |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加热温度 |
≦600℃ |
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控温精度 |
±1℃ |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
靶材尺寸 |
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷却模式 |
循环水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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靶枪数量 |
3 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
直径φ300mm，高度500mm |
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腔体材质 |
SUU304不锈钢 |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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开启方式 |
顶开式 |
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气体控制 |
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM |
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真空系统 |
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S |
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膜厚测量 |
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å |
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溅射电源 |
配直流电源,功率500W*3 |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制系统 |
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设备尺寸 |
540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H |
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设备重量 |
145kg |
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