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- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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卧式高真空三靶磁控溅射... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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小型台式单靶磁控溅射镀... 桌面型石英腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SE...
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桌面型不锈钢腔体单靶磁... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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粉体磁控溅射包覆机 粉体磁控溅射包覆机是通过粉未在溅射腔室内的旋转，以达到粉未表面均匀包覆的效果。腔室可旋转、倾斜，能快速出料。
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真空腔体 该真空腔体非常适合物理沉积 (PVD)、化学沉积 (CVD)、等离子体化学沉积 (PECVD)、热喷涂、电子束溅射等多种...
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三靶磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物...
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单靶直流磁控溅射镀膜仪 该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、...
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三靶直流磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜...
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带过渡舱三靶磁控溅射镀... 本设备为三靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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光纤绕丝单靶磁控溅射镀... 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层
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三靶向上磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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单靶磁控光纤绕丝溅射镀... 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效...
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台式紧凑型三靶磁控溅射... CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
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双靶直流磁控溅射镀膜仪 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用...
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单靶直流磁控溅射镀膜仪 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，...
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带过渡舱型双靶磁控溅射... 本设备为双靶磁溅射控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品...
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三英寸三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬...
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台式射频电源单靶磁控溅... 本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
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桌面型下置靶不锈钢腔体... 本设备为桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用...
