产品分类
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- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
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- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
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- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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可程控磁控溅射镀膜仪 可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真...
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高真空磁控溅射镀膜仪 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等...
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单室磁控溅射镀膜仪 单室磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组...
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CY-in-line磁... CY-in-line磁控溅射系统主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装...
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双靶高真空磁控等离子溅... 双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2"目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于...
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3靶紧凑型磁控溅射镀膜... 3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪是一种三头1"射频等离子体磁控溅射系统，设计用于非金属薄膜涂层，主要用于多层氧化物薄膜。3靶紧凑...
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非导电薄膜等离子磁控溅... 非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪是一款紧凑型2英寸单头射频等离子磁控溅射系统，涂有非金属，主要是氧化物薄膜。非导电薄膜等离...
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大功率直流磁控溅射镀膜... 大功率直流磁控溅射镀膜仪是一款高功率台式磁控等离子溅射镀膜机 ，带有一个水冷2英寸靶头，冷水机和可旋转样品架。大功率直流...
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单靶磁控溅射镀膜仪 本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源）。...
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三靶磁控溅射镀膜仪 产品简介：CY-600-3HD三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪，可用于制备单层或多...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电...
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四英寸四靶靶磁控溅射镀... 用于金属+非金属 钛膜、金膜、铬膜、二氧化硅薄膜生长多层薄膜的制备，在电子领域、光学领域、有机物等领域均有应用，也可实验...
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桌面型多源蒸发镀膜仪 蒸发镀膜仪应用于金属和介电膜,薄膜传感器的制造,光学元件,纳米与微电子,太阳能电池.
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桌面型三源蒸发镀膜仪 热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克...
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高真空三源热蒸发镀膜仪 三源高真空蒸发镀膜仪应用领域：金属和介电膜 ，薄膜传感器的制造 ，光学元件 ，纳米与微电子 ，太阳能电池等
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桌面型有机源蒸发镀膜仪 热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克...
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桌面型不锈钢腔体热蒸发... 热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克...
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高真空双源热蒸发镀膜仪 高真空双源热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜
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高真空电子束蒸发镀膜仪 电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其...
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三源高真空热蒸发镀膜仪 三源高真空蒸发镀膜仪应用于金属和介电膜,薄膜传感器的制造,光学元件,纳米与微电子,太阳能电池.
