产品列表
  • 紧凑型直流磁控溅射镀膜... 紧凑型直流磁控溅射镀膜仪是一款台式磁控等离子溅射镀膜机,带有2英寸靶头,高度可调的样品架。特别适用于涂覆SEM样品的导电...
  • 单靶磁控溅射镀膜仪 本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源)。...
  • 三靶磁控溅射镀膜仪 产品简介:CY-600-3HD三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多...
  • 磁控溅射镀膜仪 此款磁控溅射镀膜仪是依据二级(DC)直流溅射原理设计而成的*简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备...
  • 双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电...
  • 5英寸近源有机物蒸发镀... 近源有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉,它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具,如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能...
  • 多源真空蒸发镀膜仪 高真空蒸发镀膜仪还适用于对氧敏感的金属薄膜(如Ti、Al、Au等)的蒸镀,也适用于各种氧化物材料的蒸镀
  • 带手套箱三源蒸发镀膜仪 镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验...
  • 卷绕式高真空蒸发镀膜仪 卷绕式蒸发镀膜仪可用于不同种类的材料的薄膜生长,大多数金属和某些有机材料薄膜,如金属、半导体、氧化物等
  • 半导体薄膜电子束蒸发镀... 电子束蒸发方式镀膜设备,主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其...
  • OLED有机无机蒸发镀... 六源蒸发镀膜仪以金属/有机源蒸发为主体,适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等
  • 高真空水冷热蒸发镀膜仪 高真空蒸发镀膜仪,钨丝篮(或钨舟)用作蒸发源,并且样品台和蒸发源之间的距离是可调的。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机...
  • 三源高真空蒸发镀膜仪 三源高真空蒸发镀膜仪应用领域: 金属和介电膜 薄膜传感器的制造 光学元件 纳米与微电子 太阳能电池
  • 5英寸近距离蒸发镀膜炉... 5英寸近距离蒸发镀膜炉适用于薄膜太阳能电池,如CdTe.硫化物和钙钛矿结构太阳能电池,这是一款理想的实验工具
  • 近距离有机物蒸发镀膜炉 近距离有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉,具有11"外径的石英管。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3...
  • 小型电动升降样品台蒸发... 本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足...
  • 桌面型水冷样品台蒸发镀... 本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,设备安装有钨丝篮蒸发源,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足...
  • 桌面型不锈钢腔体蒸发镀... 本产品为专为高真空设计的桌面型小型蒸发镀膜仪,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见...
  • 桌面型热蒸发镀膜仪带膜... 本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属及部分非金属...
  • 桌面型石英腔体小型蒸发... 本产品为桌面型小型蒸发镀膜仪,可提供*大100A的镀膜电流,*大蒸发温度可达1800℃,能够满足各种常见金属及部分非金属...
  • 上一页下一页

豫公网安备 41019702002438号