产品分类
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- 实验室镀膜耗材
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导...
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磁控溅射/真空蒸发复合... 磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅...
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三靶磁控溅射镀膜仪(直... 三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)可选配...
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三靶磁控溅射镀膜仪(直... 三靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配直流电源功率...
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三靶磁控溅射镀膜仪(射... 三靶磁控溅射镀膜仪(射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配源功率从50...
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双靶磁控溅射镀膜仪（双... 双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英...
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双靶磁控溅射镀膜仪(直... 双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)典型的高速低温溅射实验室专用镀膜仪，双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)可选配直流电源和射频...
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双靶磁控溅射镀膜仪(射... 双靶磁控溅射镀膜仪(射频)高速低温溅射实验室专用镀膜仪，双靶磁控溅射镀膜仪(射频)可选配功率从500W-1000W不等的...
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双靶磁控溅射镀膜仪(直... 双靶磁控溅射镀膜仪(直流)高速低温溅射。双靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配功率从500W-1000W不等的直流电源。
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单靶磁控溅射镀膜仪（射... 单靶磁控溅射镀膜仪（射频）我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪（射频）可选配500W-1...
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单靶磁控溅射镀膜仪(直... 单靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪(直流)可选配功率从500...
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小型单靶磁控溅射镀膜仪 小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可...
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真空磁控溅射镀膜系统 真空磁控溅射镀膜系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真...
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可程控磁控溅射镀膜仪 可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真...
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高真空磁控溅射镀膜仪 高真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等...
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单室磁控溅射镀膜仪 单室磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组...
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CY-in-line磁... CY-in-line磁控溅射系统主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装...
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双靶高真空磁控等离子溅... 双靶高真空磁控等离子溅射镀膜仪紧凑型磁控溅射系统，具有双靶2"目标源，例如，一个直流源用于涂覆金属薄膜，另一个射频源用于...
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3靶紧凑型磁控溅射镀膜... 3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪是一种三头1"射频等离子体磁控溅射系统，设计用于非金属薄膜涂层，主要用于多层氧化物薄膜。3靶紧凑...
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非导电薄膜等离子磁控溅... 非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪是一款紧凑型2英寸单头射频等离子磁控溅射系统，涂有非金属，主要是氧化物薄膜。非导电薄膜等离...
