- 磁控溅射镀膜仪
- 热蒸发镀膜仪
- 高温熔炼炉
- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
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- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
- 真空手套箱
- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
镀膜仪配有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
三靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
三靶磁控溅射镀膜仪(直流电源+射频电源)
样品台
尺寸
φ140mm
控温精度
±1℃
加热温度
*高500℃
转速
1-20rpm可调
磁控溅射头
数量
2” x3 （1”,2”可选）
水冷机规格
10L/min流速的循环水冷机
冷却方式
水冷
真空腔体
腔体尺寸
Dia.300mm×300mm
观察窗口
φ100mm
开启方式
上顶开式
腔体材料
不锈钢
质量流量计
2路；量程100sccm；100sccm（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统
产品型号
CY-GZK103-A
抽气接口
CF160
分子泵
CY-600
排气接口
KF40
前极泵
旋片泵
真空测量
复合真空计
极限真空
1.0E-5Pa
供电电源
AC;220V 50/60Hz
抽气速率
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
电源配置
数量
直流电源x2 射频电源 x1
*大输出功率
直流电源500W 射频电源500W
其他
供电电压
AC220V,50Hz
整机尺寸
600mm X 650mm X 1280mm
整机重量
300kg
整机功率
4KW
极限真空度
1.0E-5Pa
