1  简介

卧式磁控溅射镀膜生产线是一种采用水平（卧式）布置基片的连续式或批量式磁控溅射真空镀膜设备，通过磁控溅射技术在工件表面沉积金属、合金及化合物等功能薄膜。设备将前处理、装片、真空抽气、溅射镀膜、卸载等工序集成为一条完整的生产线，可批量、连续完成镀膜作业。

该生产线采用直流、中频或射频磁控溅射工艺，可在模具、刀具、五金件、光学件及电子器件等基体表面沉积氮化钛（TiN）、氮化铝钛（TiAlN）、氮化铬（CrN）、铬（Cr）、类金刚石（DLC）等硬质涂层，以及装饰膜、光学膜、导电膜等功能膜层。整线自动化程度高、生产效率高、膜层均匀致密、附着力强，广泛适用于硬质涂层、装饰镀膜、光学薄膜等功能膜层的规模化生产。

2  应用领域

卧式磁控溅射镀膜生产线应用范围广泛，主要覆盖以下行业与场景：

（1）工模具行业：刀具、模具、钻头、冲头等硬质耐磨涂层的批量沉积（TiN、TiAlN、CrN、TiCN 等），显著提升使用寿命与加工性能。

（2）五金与装饰行业：不锈钢、卫浴、锁具、五金件等的装饰镀膜，可获得金色、枪黑色、仿不锈钢等多样化外观。

（3）汽车零部件行业：活塞环、气门、齿轮、轴瓦等零部件的耐磨、减摩涂层处理。

（4）光学行业：光学镜片、滤光片等的增透膜、反射膜等功能膜层沉积。

（5）电子行业：导电膜、屏蔽膜、电极膜等功能薄膜的制备。

（6）能源与新能源行业：集流体、电池极片导电层等功能膜层的规模化生产。

3  特点

（1）卧式水平布置，基片水平摆放，装夹方便，特别适合平板件、大尺寸工件及大批量连续生产。

（2）多靶位设计（典型配置 4～8 个磁控溅射靶），可一次完成多层膜、复合膜的沉积。

（3）直流、中频、射频电源可选，既适用于金属及合金膜层，也适用于氧化物、氮化物等绝缘或化合物薄膜。

（4）膜层厚度可控、均匀性好，成膜致密、附着力强，涂层性能稳定。

（5）本底真空度高、工作真空稳定，镀膜过程污染小，膜层质量一致性好。

（6）自动化程度高，采用 PLC 加触摸屏程序化控制，可实现自动上下料与工艺参数自动管理，生产过程稳定、可重复。

（7）生产效率高，适合批量规模化生产，单位产出运行成本相对较低。

（8）模块化设计，预留升级扩展接口，可根据产能与工艺需求灵活配置。

4  技术参数

产品名称	卧式磁控溅射镀膜生产线
设备形式	卧式磁控溅射镀膜生产线（连续式/批量式）
真空室尺寸（长×宽×高）	依型号而定，典型如 3000×1200×800 mm
溅射靶数量	4～8 个（可定制）
靶材形式	长条形平面靶，尺寸依型号而定
电源方式	直流（DC）/中频（MF）/射频（RF）可选
本底真空度	≤ 5×10⁻³ Pa
工作真空度	0.1～1.0 Pa
极限真空度	≤ 5×10⁻⁴ Pa
沉积速率	依靶材与工艺而定，典型 0.1～1 μm/min
膜厚均匀性	± 3%～5%
基片温度	室温～500 ℃（可选配加热）
加热方式	电阻加热 / 辐射加热
装载方式	卧式托盘 / 挂具
自动化控制	PLC + 触摸屏，程序化控制
供电电源	380 V / 50 Hz 三相
整机功率	依型号而定
整机尺寸与重量	依型号而定