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  • 产品名称：高温超导带材卷对卷离子束辅助沉积系统

  • 产品型号：CY-MSH-IBAD
  • 产品厂商：成越科仪
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简单介绍：
高温超导带材卷对卷离子束辅助沉积系统（Roll-to-Roll Ion Beam Assisted Deposition System for HTS Tape）是面向di二代高温超导带材（REBCO 涂层导体）缓冲层制备的专业薄膜沉积装备
详情介绍：

一、产品简介

高温超导带材卷对卷离子束辅助沉积系统（Roll-to-Roll Ion Beam Assisted Deposition System for HTS Tape）是面向di二代高温超导带材（REBCO 涂层导体）缓冲层制备的专业薄膜沉积装备。本系统采用卷对卷连续走带方式，金属基带（如 Hastelloy C276 合金带或不锈钢带）在真空腔室内连续行进，通过离子束辅助沉积（IBAD）工艺在基带表面沉积具有双轴织构的 MgO 模板层，为后续外延生长 LaMnO₃、CeO₂ 等缓冲层及超导层提供结晶取向基础。
本系统将离子束辅助沉积单元、卷对卷传动单元、真空与温控单元及自动化控制单元集成为一体，具备连续化、自动化、可重复性高的特点，是超导带材规模化制备的关键工艺装备。

二、应用领域

本系统广泛应用于以下领域：
（一）di二代高温超导带材（REBCO 涂层导体）的缓冲层制备，为超导层外延生长奠定双轴织构基础；
（二）超导电缆、超导磁体、超导电机等超导应用器件所需的带材基材制备；
（三）核磁共振（MRI）、粒子加速器、聚变装置等强磁场应用场景的超导带材供应；
（四）高性能双轴织构薄膜的制备与研究，包括 MgO、LaMnO₃、CeO₂ 等织构功能薄膜；
（五）金属基带表面织构化处理及功能薄膜连续沉积等材料制备工艺研究。

三、核心优势

（一）连续化卷对卷工艺：带材连续走带、放收卷一体化，带材利用率高，适合规模化连续生产；
（二）双轴织构可控：离子束能量、束流密度与入射角jing确可调，实现高取向度 IBAD-MgO 模板层；
（三）张力闭环控制：走带张力实时闭环调节，带材运行平稳，沉积均匀性高；
（四）模块化腔体设计：放卷、沉积、收卷多腔室模块化布局，可扩展多种缓冲层沉积工艺；
（五）自动化程度高：PLC 与工控机联动，触摸屏人机界面，工艺参数可编程、可追溯。
四、技术参数

产品名称

高温超导带材卷对卷离子束辅助沉积系统

产品型号

CY-MSH-IBAD

带材宽度

10～50 mm（可定制）

带材厚度

50～100 μm

基带材料

Hastelloy C276 / 316L 不锈钢

走带速度

0.5～20 m/h

放卷/收卷盘径

≤Φ400 mm

离子源类型

考夫曼型 / 霍尔型射频离子源

离子束能量

100～1200 eV

离子束流密度

0～100 mA

离子束入射角

0°～60° 可调

沉积源

电子束蒸发源 / 磁控溅射源

沉积速率

0.01～1 nm/s

本底真空度

≤5×10⁻⁵ Pa

工作真空度

1×10⁻³～1×10⁻² Pa

基带加热温度

室温（RT）～500 ℃

张力控制

闭环控制，0.1～20 N

控制系统

PLC + 工控机，触摸屏人机界面

总装机功率

约 30～80 kW

腔体形式

多腔室模块化（放卷/沉积/收卷）

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