产品名称：桌面型不锈钢腔体双靶磁控镀膜仪

本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。

本套配置采用高真空不锈钢腔体，前开门式设计，门上配有石英观察窗，便于实验的观察记录。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。顶盖上装有一套挡板，可通过转动挡板切换两支靶，实现多层镀膜。

本设备需要配合高真空分子泵组一起使用，用户可以选择进口品牌小型分子泵以进一步节省安装面积。同时该型号可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据，为实验工艺提供可靠参数。

双靶磁控镀膜仪参数：

产品名称	桌面型不锈钢腔体双靶磁控镀膜仪
产品型号	CY-MSZ210-I I -DCDC-SS
样品台	外形尺寸	φ60mm
	加热温度	≦500℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	配两支2英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体	腔体尺寸	φ210mm X260mm
	观察窗口	全向透明
	腔体材料	304不锈钢
	开启方式	上盖拆卸式
真空系统	前级泵	低噪音双极旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速涡轮分子泵
	真空测量	复合真空计，量程:10-5~105Pa
	抽气接口	KF16
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF16
	系统真空	1.0×10-4Pa
	供电电源	AC 220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s
电源配置	电源数量	直流电源两套
	输出功率	500W
其他参数	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	2kW
	整机尺寸	550mm X 350mm X400mm