产品名称：桌面方形腔体磁控溅射镀膜仪

桌面方形腔体磁控溅射镀膜仪是郑州成越科学仪器有限公司（CYKY）面向实验室推出的小型磁控溅射镀膜设备。设备以磁控溅射物li气相沉积技术为核心，配备 304 不锈钢方形真空腔体、触控屏一体化控制系统与前级泵+分子泵两级高真空系统，可在多种基片表面沉积金属、氧化物、氮化物等功能薄膜。整机桌面式布局、操作简便、维护成本低，广泛服务于电镜制样、薄膜科研与实验教学等场景。

一、产品简介

磁控溅射镀膜仪是一种基于物li气相沉积（PVD）技术的高效薄膜制备设备。其工作原理为：在低气压氩气环境中施加电场形成辉光放电，氩离子（Ar+）在磁场与电场的共同作用下高速轰击靶材表面，将靶材原子溅射出来并沉积于基片表面，从而形成致密、均匀的功能薄膜。磁场约束电子的技术特点显著提高了气体离化率，使设备在较低工作气压下即可获得较高的沉积速率与更好的膜层质量。

本产品为桌面式方形腔体磁控溅射镀膜仪，由郑州成越科学仪器有限公司（CYKY）研制生产。设备采用方形 304 不锈钢真空腔体，前开门取放样，正面配置大面积观察窗，可实时观察溅射辉光与成膜过程；机身集成触控屏一体化控制系统，真空、气路、功率等工艺参数一目了然，操作直观简便。整机造型小巧，无需专用场地即可放置于实验室桌面，是高校、科研院所和企业实验室开展薄膜研究与小批量镀膜的理想选择。

二、应用领域

桌面方形腔体磁控溅射镀膜仪适用范围广泛，主要应用领域包括：

电镜样品制备：在 SEM、TEM 分析前对非导电样品溅射金（Au）、铂（Pt）等导电层，消除荷电效应，提高成像质量；

电子与微电子领域：制备金属电极、导电薄膜（如 Au、Ag、Cu、Al、Ti、Cr 等）及多层膜结构；

光学领域：制备高反射膜、增透膜、电极膜等光学功能薄膜；

半导体与光电子：薄膜晶体管、透明导电氧化物（ITO、AZO）等器件工艺研究；

材料科学研究：特殊陶瓷薄膜、硬质涂层（TiN、CrN 等）及化合物薄膜的反应溅射制备；

新能源与传感：太阳能电池电极、薄膜传感器等功能薄膜的实验开发；

高校教学实验：作为材料、物理、化学、微电子等专业真空镀膜实验教学平台。

三、产品特点

1. 桌面式紧凑设计：整机尺寸仅约 550 mm × 350 mm × 450 mm，占地小、重量轻，普通实验台即可摆放，大幅降低实验室空间与场地要求。

2. 方形腔体结构：304 不锈钢方形真空腔体，内壁抛光处理，真空性能优良；前开门取放样便捷，正面大面积观察窗便于实验观察与记录。

3. 触控屏智能控制：集成触控显示屏，真空抽取、溅射功率、镀膜时间等参数集中设置、实时显示，操作逻辑简单，上手快。

4. 高真空保障成膜质量：采用前级旋片泵与高抽速涡轮分子泵组成的两级真空系统，极限真空可达 10⁻⁴ Pa 量级，有效降低残余气体污染，保证膜层纯度与附着力。

5. 旋转加热样品台：样品台支持室温至 500 ℃ 加热及 0～20 rpm 可调旋转，有效改善膜厚均匀性与膜基结合力。

6. 模块化设计：真空系统、控制系统、靶枪等均采用模块化结构，维护升级方便，可按需定制单靶、双靶等配置。

7. 低能耗、环保an全：整机功率约 2 kW，能耗低，运行稳定，符合绿色实验室理念。

四、技术参数

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