产品名称：一体化箱式磁控溅射镀膜设备

方形腔体磁控溅射镀膜仪是郑州成越科学仪器有限公司（CYKY）推出的一体化箱式磁控溅射镀膜设备。设备以磁控溅射物理qi相沉积技术为核心，上部为 304 不锈钢方形真空腔体、前开门带观察窗，正面嵌入触控屏集中操控，外置前级泵+涡轮分子泵两级高真空系统，可在多种基片表面沉积金属、氧化物、氮化物等功能薄膜。整机结构紧凑、即开即用，广泛服务于电镜制样、薄膜科研与实验教学等场景。

一、产品简介

磁控溅射镀膜仪是一种基于物理qi相沉积（PVD）技术的高效薄膜制备设备。其工作原理为：在低气压氩气环境中施加电场形成辉光放电，氩离子（Ar+）在磁场与电场的共同作用下高速轰击靶材表面，将靶材原子溅射出来并沉积于基片表面，形成致密、均匀的功能薄膜。正交电磁场将电子约束在靶材附近，显著提高了气体离化率，使设备在较低工作气压下即可获得较高的沉积速率与更好的膜层质量。

方形腔体磁控溅射镀膜仪由郑州成越科学仪器有限公司（CYKY）研制生产，是一台高度集成的一体化箱式镀膜设备。设备上部为方形 304 不锈钢真空腔体，前部采用侧铰链开门结构，门上配置圆形观察窗，可直观观察溅射辉光放电与成膜过程；机身正面嵌入触控显示屏，真空、气路、功率等工艺参数集中显示、一键操作。整机将真空腔体、真空机组、气路与控制系统融为一体，结构紧凑、造型美观、免安装即开即用，是实验室薄膜沉积、电镜样品制备与工艺开发的实用型平台。

二、应用领域

方形腔体磁控溅射镀膜仪适用范围广泛，主要应用领域包括：

电镜样品制备：在 SEM、TEM 观察前对非导电样品溅射金（Au）、铂（Pt）等导电层，消除荷电效应，提升成像质量；

电子与微电子：制备金属电极与导电薄膜（Au、Ag、Cu、Al、Ti、Cr 等）及多层膜结构；

光学薄膜：高反射膜、增透膜、电极膜等光学功能薄膜的制备；

半导体与光电子：薄膜晶体管、透明导电氧化物（ITO、AZO）等器件工艺研究；

材料科学研究：特殊陶瓷薄膜、硬质涂层（TiN、CrN 等）及化合物薄膜的反应溅射制备；

新能源与传感器件：太阳能电池电极、薄膜传感器等功能薄膜的实验开发；

实验教学平台：材料、物理、化学、微电子等专业的真空镀膜教学实训。

三、产品特点

1. 一体化箱式结构：真空腔体、真空机组、气路与电控系统融为一体，落地即用，无需复杂安装调试，节省实验室空间。

2. 方形不锈钢腔体：304 不锈钢方形真空腔体，内壁抛光处理，真空密封性能优良；前部侧铰链开门取放样便捷，门上圆形观察窗便于实时观察镀膜过程。

3. 嵌入式触控屏控制：正面触控显示屏人机界面友好，抽真空、溅射功率、镀膜时间等参数集中设置与实时显示，操作简单易上手。

4. 两级高真空系统：前级机械泵与涡轮分子泵组成二级泵组，极限真空达 10⁻⁴ Pa 量级，降低残余气体污染，保证膜层纯度与附着力。

5. 旋转加热样品台：样品台支持加热与可调旋转，改善膜厚均匀性与膜基结合力，适应多种工艺需求。

6. 多种靶材与工艺兼容：支持金属、半导体、绝缘体等多种靶材溅射，可选配射频（RF）电源实现非金属及光学薄膜制备。

7. 模块化、易维护：核心部件模块化布置，维护升级方便，可按需定制单靶、双靶等配置。

四、技术参数