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本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪，样品台与靶面的角度可调，可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。设备真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。
倾斜样品台式单靶磁控技术参数：
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CY-MSP180S-DC-GU |
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样品台 |
尺寸 |
φ60mm |
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转速 |
0-20可调 |
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安装方式 |
上置于腔体上盖，样品安装为夹持式 |
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磁控溅射靶 |
数量 |
2” x1 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ180mm X 215mm |
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观察窗口 |
全向可视 |
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腔体材料 |
高纯石英 |
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开启方式 |
顶盖拆卸式 |
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真空系统 |
机械泵 |
双级旋片泵 |
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抽气接口 |
KF16 |
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分子泵 |
涡轮分子泵 |
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抽气接口 |
KF40 |
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真空测量 |
电阻规+电离规 |
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排气接口 |
KF40 |
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极限真空 |
1.0E-3a |
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供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
机械泵1.1L/s 分子泵60L/s |
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电源配置 |
数量 |
直流电源 x1 |
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*大输出功率 |
直流电源300W |
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其他 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
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整机尺寸 |
550mm X 32mm X62m |
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整机功率 |
2kW |
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