产品名称：桌面型靶下置型磁控镀膜仪

本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能*大限度的保护样品。

桌面型靶下置型磁控镀膜技术参数：

产品名称	桌面型靶下置型磁控镀膜仪
产品型号	CY-MSZ180X-I-DC-SS
样品台	外形尺寸	φ100mm
	加热温度	≦500℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	配一支两英寸磁控靶，靶材尺寸:直径50.8mm，厚度≦3mm
真空腔体	腔体尺寸	φ180mm X215mm
	观察窗口	全向透明
	腔体材料	304不锈钢
	开启方式	上盖拆卸式
真空系统	前级泵	低噪音双极旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速涡轮分子泵
	真空测量	复合真空计，量程:10-5~105Pa
	抽气接口	KF16
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF16
	系统真空	1.0×10-4Pa
	供电电源	AC 220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵抽速600L/s，前级泵抽速1.1L/s
电源配置	电源数量	直流电源一套
	输出功率	500W
其他参数	供电电压	AC220V,50Hz
	整机功率	2kW
	整机尺寸	550mm X 350mm X400mm