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  • 产品名称:紧凑型直流磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:CY-VTC-D
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
紧凑型直流磁控溅射镀膜仪是一款台式磁控等离子溅射镀膜机,带有2英寸靶头,高度可调的样品架。特别适用于涂覆SEM样品的导电金膜。紧凑型直流磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型等离子溅射镀膜机,专为金属涂层设计,如金、铂金和白银。包括一个2英寸金靶(4N)。
详情介绍:

紧凑型直流磁控溅射镀膜仪应用领域:

紧凑型直流磁控溅射镀膜仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。

紧凑型直流磁控溅射镀膜仪技术规格:

特点

1.专为SEM样品涂覆导电金膜而设计。

2.紧凑型等离子溅射镀膜机专为金属涂层而设计,如金,铂和银。

3.包括一个2“金(4N)目标。

输入电压

  • 220 VAC 50/60Hz, 200W
  • < 1000 W (包括真空泵功率)
  • 使用1000 W变压器(15 A保险丝)可获得110VAC电源。

输出电压

500 VDC

溅射电流

  • 0 - 50 mA (max)可调节的溅射电流
  • 数字电流表(mA)
  • 过流保护

溅射时间

1 -120秒可调

样本室

石英玻璃管, 165 mm外径×150 mm内径×150 mm高

样品台

2"直径,高度可调, 从样品到靶30 - 80 mm

溅射头

2"磁控溅射头。一个手动操作的遮板用于保护靶

真空压力

  • 数字真空压力表(Pa)
  • KF25真空泵连接器
  • 机械泵的极限真空压力为1,泵不包括在内。

输入气体

  • 安装一个1/4世伟洛克型管接头,用于连接惰性气瓶。
  • 前面板上有一个计量阀,用于调节输入气体。

靶材

  • 包括一个直径50mm×0.12mm的金靶
  • 4N纯度金箔: 50 mm(2英寸)直径x 0.12 mm (包含并预装在镀膜仪上) 
  •  可选靶材

金靶 (50 mm 直径×0.12 mm, 4N 纯度) 

铂金靶(50 mm直径×0.12 mm, 4N纯度)  

银靶(50 mm 直径×0.5 mm, 4N 纯度) 

该型号适用于涂覆金,银,铂。并且由于能量低,不适合涂覆轻金属材料,如Al、Mg、Zn或碳靶。请考虑我们的高功率直流/射频磁控溅射涂布机或热蒸发涂布机。  

产品尺寸和重量

L 460 mm×W 330 mm×H 520 mm

20kg

售后服务

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